電弧離子鍍陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，金屬表面鍍鈦選哪家，從而完成薄膜材料的沉積，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。過(guò)濾陰極弧過(guò)濾陰極電弧(FCA)配有g(shù)ao效的電磁過(guò)濾系統，可將弧源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀(guān)大顆粒過(guò)濾掉，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，金屬表面鍍鈦服務(wù)電話(huà)，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。離子束離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產(chǎn)生電子束，再引入已抽成真空且充滿(mǎn)惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負極引出陽(yáng)離子又經(jīng)加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產(chǎn)生濺射效應和注入效應。

一、鍍膜技術(shù)可區分為哪幾類(lèi)?可區分為：(1)真空蒸鍍(2)電鍍(3)化學(xué)反應(4)熱處理(5)物理或機械處理二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點(diǎn)?加熱方式分為：(1)電阻加熱(2)感應加熱(3)電子束加熱(4)雷射加熱(5)電弧加熱各具有的特點(diǎn)：(1)電阻加熱：這是一種zui簡(jiǎn)單的加熱方法，設備便宜、操作容易是其優(yōu)點(diǎn)。(2)感應加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。(3)電子束加熱：這種加熱方法是把數千eV之高能量電子，金屬表面鍍鈦哪里有，經(jīng)磁場(chǎng)聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達30000C。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，許昌金屬表面鍍鈦，它已經(jīng)成為了當代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長(cháng)法，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。